20nm 臺(tái)式X射線源脈寬 7 ns是Tingen在激光實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的，由高脈沖能量YAG激光器（1064nm，800mJ，7ns）聚焦于氣體電離產(chǎn)生。不同的目標(biāo)氣體對(duì)應(yīng)不同的能譜分布。

產(chǎn)品型號(hào)：EUV-B-XRAY

更新時(shí)間：2024-12-03

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

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激光源產(chǎn)生的紫外/軟X射線輻射是Tingen在激光實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的，由高脈沖能量YAG激光器（1064nm，800mJ，7ns）聚焦于氣體電離產(chǎn)生。不同的目標(biāo)氣體對(duì)應(yīng)不同的能譜分布。

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 低殘留

● 高EUV能量（3.5 MJ）

● 低耗氣量（氣體脈沖持續(xù)時(shí)間：<1 ms）

● 簡(jiǎn)單目標(biāo)氣體交換

● 桌面系統(tǒng)

產(chǎn)品應(yīng)用

● 計(jì)量：反射測(cè)量、吸收

● 光譜學(xué)（nexafs）

● 光學(xué)/傳感器測(cè)試

● EUV損壞調(diào)查

● 材料相互作用基礎(chǔ)研究

● 水窗顯微鏡（λ=2..4納米）

技術(shù)參數(shù)